多晶硅生产设备清洗的意义

    时间:2018-05-28 11:44:42作者:LeeZhou来源:威尼斯人app清洁设备分享到:QQ空间新浪微博腾讯微博人人网微信

    多晶硅按不同的用途可分为太阳能级多晶硅和电子级多晶硅两类。太阳能级多晶硅的纯度一般在5~7N,主要杂质为Fe、Cr、Ni、Cu、Zn 等,金属杂质总含量≤0.2(太阳能三级品要求)。电子级多晶硅一般含Si>99.9999%以上,超高纯达到99.9999999%~99.999999999%,即9~11N,其导电性为10- 4~1010Ω·cm,碳浓度<2×1016at·cm- 3。

    油脂、水分、氯离子残留、金属氧化物、氯化物、灰尘及其他杂质,对多晶硅的纯度影响极大。在多晶硅设备制造、安装和多晶硅生产过程中清洗是十分重要的部分,要按多晶硅生产工艺,对不同洁净度要求、不同材质的设备采用不同的清洗方法。'
     
    多晶硅

    多晶硅设备的清洗的不同阶段:

    1、设备制造阶段的清洗

    金属设备及管道、零件需要在除漆前将表面的氧化皮和铁锈除掉,设备内部的油脂、轧制鳞片、锈皮等也需要进行清洗。

    2、多晶硅设备安装阶段的清洁

    由于工艺管道输送的介质特性及产品纯度要求,对管道的焊接质量及内部清洁、吹扫试压均有较高要求,对设备进场验收、检验及安装、内部处理也有较高要求,因此设备制造结束后的清洗处理至关重要。在装置进行试生产前期,系统注入四氯化硅进行循环清洗约2~3个月,时间的长短取决于设备前期清洗情况。

    3、多晶硅设备生产期间的清洗

    还原炉和氢化炉是改良西门子法生产多晶硅的核心设备,其运行好坏直接影响多晶硅质量及生产成本。多晶硅生产对还原炉的沉积环境的洁净度要求特别关键,任何颗粒性杂质、油脂等物质余留在炉内,都会对产品质量造成影响。威尼斯人app经过研发设计并制造出了多晶硅自动化还原炉钟罩清洗系统,可以完全将多晶硅还原炉钟罩清洗干净,满足生产需求。

    威尼斯人app电子级多晶硅还原炉钟罩清洗系统包括低压热水清洗动力装置、三维洗罐器、旋转和升降执行机构、清洗工作台、万级净化干燥系统、循环过滤系统、控制装置、微负压系统、清洗工作台、电气控制系统等,系统实现了钟罩的全自动清洗和烘干操作。
     
    威尼斯人app多晶硅还原炉钟罩清洗系统

    电子级多晶硅还原炉钟罩自动清洗系统特点:以水力自驱动三维洗罐器为喷头,形成360° 3D形式的网状喷射来完成炉筒内部表面的水力扫射。配以旋转和升降的清洗吹干执行机构,准确定位。操作简单方便,系统控制,清洗、吹干自行调整。不仅可以满足对内壁和视孔镜的清洗,同时也满足了底部法兰的清洗。

    在整个还原炉的清洗过程中,清洗、干燥中筒内形成微负压状态,防止清洗外溢,同时将底座与筒体下法兰处的污染物等一并吹扫,通过排污管排出,从而保证了整个过程不会对洁净区造成污染。

    生产多晶硅的工艺复杂,设备清洗是可以降低能耗保证多晶硅产品质量的。多晶硅生产企业对设备须从选型、选材、清洗等方面进行合理、科学的管理,应用现代技术,进行全程清洗,以充分发挥设备功效,为安全、高效生产创造条件。

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